Seto 1.60 fotohromna leća shmc

1) Što je spin premaz?

Spin premaz je postupak koji se koristi za odlaganje ujednačenih tankih filmova na ravne podloge. Obično se na sredinu supstrata primjenjuje mala količina materijala za oblaganje, koja se ili vrti pri maloj brzini ili se uopće ne vrti. Supstrat se zatim rotira brzinom do 10 000 okr / min kako bi se obložili materijal centrifugalnom silom. Stroj koji se koristi za prevlačenje naziva se spin koater ili jednostavno spinner.
Rotacija se nastavlja dok se tekućina okreće s rubova supstrata, sve dok se ne postigne željena debljina filma. Primijenjeno otapalo je obično isparljivo i istovremeno isparava. Što je veća kutna brzina vrtenja, to je tanji film. Debljina filma također ovisi o viskoznosti i koncentraciji otopine i otapalu. [2] Pionirsku teorijsku analizu spin premaza poduzeli su Emslie i sur., A produžili su je mnogi naredni autori (uključujući Wilson i sur., [4] koji su proučavali brzinu širenja u spin premazu; i Danglad-Flores i sur., [5] koji je pronašao univerzalni opis za predviđanje debljine deponirane filma).
Spin premaz se široko koristi u mikrofabrikaciji funkcionalnih oksidnih slojeva na staklenim ili pojedinačnim kristalnim podlogama pomoću prekursora sol-gel, gdje se može koristiti za stvaranje ujednačenih tankih filmova s ​​debljinama nanoskalnih slučajeva. [6] Intenzivno se koristi u fotolitografiji za odlaganje slojeva fotoresista debljine oko 1 mikrometre. Fotoresist se obično vrti na 20 do 80 revolucija u sekundi tijekom 30 do 60 sekundi. Također se široko koristi za izradu ravninskih fotonskih struktura izrađenih od polimera.
Jedna prednost za okretanje tankih filmova je ujednačenost debljine filma. Zahvaljujući samoodlaktiranju, debljine ne variraju više od 1%. Međutim, spin premaz debljih filmova polimera i fotoresista može rezultirati relativno velikim rubnim zrncama čija planarizacija ima fizičke granice.